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KRI 聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜

作者:伯東企業(上海)有限公司 來源:hakuto 發布時間:2023-05-22 瀏覽:13
KRI 聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜

國內某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

伯東 KRI 聚焦型射頻 RFICP 380 技術參數:

射頻型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻 RFICP 380可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行沉積和刻蝕.

 

運行結果:

1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

2. 類金剛石薄膜與基體結合力的臨界載荷達到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數為0.15, 耐磨性能得到提高

 

伯東是德國  , , , , 美國  , 美國, 美國  , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進口品牌的指定代理商.

 

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
                    

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